Specialni grafit se razlikuje od običajnih grafitnih materialov. Običajno ima višjo čistost, enotnejšo mikrostrukturo in stabilnejšo visoko-temperaturno delovanje, zaradi česar se uporablja predvsem v fotonapetostnih eno-kristalnih pečeh, polprevodniški opremi, visoko-temperaturni industriji in jedrski energiji.
Posebni grafit uživa stabilno povpraševanje v številnih proizvodnih sektorjih. Fotovoltaična industrija je eno najhitreje-rastočih področij uporabe v zadnjih letih. Grafitni grelniki, podporne strukture lončkov in izolacijski materiali se v veliki meri uporabljajo v eno-kristalni opremi za vlečenje silicijevega kristala; te komponente običajno zahtevajo visoko-čist grafit. Ko se velikosti fotovoltaičnih silicijevih rezin povečujejo in oprema za vlečenje kristalov nadgrajuje, se povečujejo tudi velikost in tehnične zahteve za sorodne grafitne komponente.
Oprema za proizvodnjo polprevodnikov je še eno pomembno področje uporabe posebnega grafita. V opremi za nanašanje s kemičnim naparjevanjem, jedkanje in obdelavo rezin se grafitni materiali pogosto uporabljajo v-nosilnih strukturah ali ogrevalnih komponentah. Te aplikacije običajno zahtevajo materiale z visoko čistostjo in nizko vsebnostjo nečistoč, kar postavlja višje zahteve za proizvodne procese.
Poleg tega ima sektor opreme za jedrsko energijo tudi povpraševanje po posebnem grafitu. Visokotemperaturni-plinsko-hlajeni reaktorji in druge strukture reaktorjev zahtevajo uporabo velikih količin grafita kot osnovnih strukturnih materialov, njihove stabilnostne in varnostne zahteve pa so visoke. Čeprav je obseg sorodnih aplikacij razmeroma omejen, je tehnični prag visok, zato je vedno veljal za visoko{4}}smer izdelka na področju posebnega grafita.
